资腾科技参加SEMICON China国际半导体展，展示CMP （Chemical Mechanical Polishing，化学机械研磨）超洁净空气PVA刷轮。因应埃米时代对晶圆洁净与先进制程稳定性的高度要求，此刷轮可有效降低微粒与制程残留，缩短预清洁时间，并减少晶圆空片用量，同时达到100% 去离子水透水率，全面强化先进制程与封装良率。

资腾将于2026年3月25日至27日参加SEMICON China国际半导体展，于上海新国际博览中心N3馆Booth 3187，展示各项先进制程解决方案。

资腾总经理陈国荣表示：「随着半导体制程迈向更先进的埃米世代，材料与设备技术的整合能力将成为产业关键。我们将持续导入全球创新技术，并透过在地化技术服务，协助客户打造更高效率且更永续的半导体制造环境。」

晶圆表面工程需在奈米级缺陷控制、材料保护与量产成本之间取得平衡，为影响先进制程与先进封装良率的重要关键。在先进制程中，平整度不仅决定电路图案能否「印得准」，更直接影响先进封装芯片堆栈时是否能「贴得紧」，是决定半导体制造良率的重要环节。

针对先进制程挑战，资腾本次展出CMP超洁净空气PVA刷轮，在实际制程测试中可降低微粒与制程残留物，并将预清洁时间（break-in time）缩短，减少晶圆空片（dummy wafer）的用量，同时达到100%去离子水透水率，在清洗过程中有效降低用水量，使整体制程降低CMP制程用水，进一步提升产线稼动率与降低资源消耗。该刷轮采用空气发泡技术，材料具备无淀粉残留特性，拥有业界最低金属粒子与液体微粒子检出量，减少化学残留与细菌滋生。

除了CMP洁净制程技术外，资腾亦展示多项环境永续相关的制程解决方案。其中IFC中性去光阻液，具备高效率去除有机挥发物且对人体无害的特性；Morikawa VOCs液化回收系统，透过压缩冷凝技术回收制程排放气体，回收效率可达99.9%，协助晶圆厂降低排放并提升资源利用效率。

同时，资腾亦积极拓展新兴应用领域，包括硅光子设备与AI服务器双相浸没式冷却技术，透过整合设备、材料与自动化技术，持续提供半导体与先进电子产业多元制程解决方案。

【展览信息】

展览名称：SEMICON CHINA 2026

展览时间：2026年3月25-27日 09:00am - 5:00pm（最后一日仅开放至下午4时）

展位地点：上海新国际博览中心（SNIEC）

摊位编号：N3馆Booth 3187

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